Ø        产品名称 : 光致发光影像测量系统PLIM
Ø        产品型号 : PLIM320
Ø        产品说明
PLIM320系统是最全面的光致发光影像测量系统。
光致发光，或称光激发荧光 (Photoluminescence, PL) 对于检测发光半导体材料的光电特性是一个方便快速、非接触式与无破坏性的技术。藉由分析光致发光的光谱影像与数据，可以得知掺杂之杂质的种类与含量、能隙大小、少子寿命分布，鉴别材料的损伤、裂痕，以及缺陷分布等等，是做为材料的结构成分、性能与质量鉴别的最佳工具。
PL经常应用于半导体材料、太阳能电池测试、LED外延片等等材料的研究与检测等领域。

l        配备短波红外相机SWIR InGaAs，波长侦测范围在900 nm ~ 1700 nm，涵盖了目前所有太阳能电池材料的发光波段。
l        可侦测波长范围900 nm ~ 1700 nm包含硅能带间的发光(~ 1200 nm, band-to-band luminescence)、硅缺陷发光(~ 1500 nm, dislocation luminescence)。
l        主要可从事三种模式的影像测量；分别是穿透式光致发光影像测量(T-PLI)、反射式光致发光影像测量(R-PLI)、以及红外穿透影像测量。
l        可更换不同视野的镜头来改变所拍摄到影像的空间分辨率。
l        配备自动XY移动平台扫描成像，达到高空间分辨率与较宽广的拍摄视野。
l        简单易用的程序接口。
Ø        产品规格

项目	规格
SWIR InGaAs相机	1.      320 x 256 pixel    2.      侦测波长范围: 900 nm ~  1700 nm    3.      影像速度: 30Hz    4.      标准配备涵盖视野156 mm x  156 mm的广角镜头一个，与38 mm x 28 mm视野的镜头一个。
激发光源	1.      激光一部, 808 nm,  30W    2.      50W QTH光源一部，含1200 nm长波滤镜(Long Wavelength Pass Filter)
X、Y移动平台	1.      行程: 200 mm    2.      分辨率: 2.5 um    3.      XY轴控制器一部
均光装置	1.      反射式均光装置x1,    2.      穿透式均光装置x1
载台	1.      可放置最大156 mm x  156 mm大小样品
软件规格	1.      可控制相机取相拍摄、储存    2.      可做影像扫描拍摄    3.      可自动将扫描拍摄结果成像、储存。    4.      可做强度分析    5.      可做少子生命期分布作图。
计算机系统	1.      PC/LCD，Windows 操作系统
其他	1.      单张拍摄速度: < 1  sec    2.      可作T-PLI、R-PLI、IR穿透影像、与ELI的检测。    3.      ELI配备两座Z轴调整探针座及一可程控电源供应器(最高可提供10安培电流)。