反应离子刻蚀技术（Reactive Ion Etching, RIE）是低固定资产投入、经济效益高的太阳电池先进技术之一，它具有工艺简单、与常规产线兼容性好等优点，是快速提高产品质量的有效途径之一。为了得到较高的RIE电池转换效率和组件峰值功率，需对电池工艺、电池与组件的匹配性进行摸索，主要包括电池工艺**、电池反射率与镀膜玻璃的匹配、镀膜玻璃的优化选择等。通过以上调整，156多晶电池有0.6%以上的效率提升，电流密度提高0.8mA/cm2，开路电压提高2mV以上；60片电池组件功率提高5W，Power Loss降低至1.0%以下。同时，反应离子刻蚀技术可很好的解决金刚线切割多晶硅片的线痕难题，有效推动了金刚线切割技术在多晶硅片方面的发展。