因此，完善的单层减反射薄膜条件是膜层的光学厚度为1/4波长，其折射率为基片和入射媒质折射率相乘积的平方根。 2 减反射薄膜的材料 要想将光电池对光反~射引起的损失减至最小，因此必须使反射系数ρ最小，如上分析，对单层减反射薄膜必须满足：  对硅光电池来讲，如果光直接从空气射入电池，n0=1，nSi=3.8，则折射率为1.9时的介质膜为最佳，但是它仅仅对特定波长的单色光为最佳，对于一般的复色光源，邻近特定波长的光，在确定的介质材料和厚度下，由于条件不完全满足，反射光只可能部分地被抵消，虽然ρ有所增大，但对波长较远的光，起不到减反射作用，因此在设计中应选取适当的n1材料和制作合适的膜厚t，才能使其波长落在光源辐射最强的波长附近。 几种能够作为减反射薄膜的材料和它的折射率列在表1中，可供参考：  由于氮化硅的折射率为1.9，是很理想的减反射膜材料，所以研究中采用的就是这种材质的减反射膜。氮化硅薄膜的折射率高，其中晶态氮化硅薄膜的折射率为2.0;非晶态氮化硅薄膜的折射率会在其左右一定范围内波动。氮化硅薄膜的厚度和颜色有对应关系，如表2所示。  厚度可用椭圆偏振仪精确测量。在能够估计厚度范围的情况下，可根据氮化硅薄膜的颜色和表中所列的颜色进行比较，以此来确定氮化硅膜的大约厚度。图2～图4分别为镀膜前、80 nm左右SiN薄膜和65 nm左右的SiN薄膜图示。  |
