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晶体硅太阳能电池生产线刻蚀工序介绍

2014-2-11 14:32| 发布者: echo| 查看: 11547| 评论: 0|来自: 中国光伏测试网

摘要: 一、刻蚀工序基本作用 目前常规太阳电池的生产流程如下：刻蚀作为太阳电池生产中的第三道工序，其主要作用是去除扩散后硅片四周的N型硅，防止漏电。刻蚀一般情况下和去PSG联系在一起，去PSG顾名思义，其作用是去掉扩 ...

       三探针是利用探针与硅片表面形成整流接触（如右图），通入交流电，通过毫安表的偏转方向判断硅片的PN型。此法不适应于低阻的硅片，因为低阻硅片与探针形成的是欧姆接触。

       五、刻蚀常见问题及解决方法

       六、刻蚀未来工艺的发展方向  
       1. 刻蚀发展方向：去PSG工序将与干法刻蚀合为一道工序，干法刻蚀将逐步被湿法刻蚀所取代。
       2. 湿法刻蚀最新设备：结合rena和kuttler设备的优点，既能避免黑边、方阻也不上升。
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