美国k-Space公司作为原位、在线和离线测试设备的主要制造商，努力为半导体、薄膜材料和光伏产业的研究机构和制造商提供专业的材料性能测试设备。我们的设备满足几乎所有的薄膜沉积手段的监测要求，包括各种MBE, MOCVD, PLD, PVD, 溅射和蒸发设备。K-Space公司由密歇根州立大物理学教授Professor Clark创立于1992年，其后长期致力于在包括半导体、光伏产业和薄膜材料的沉积、退后和处理方面提供最好的的研究和制备监测手段。

       MOS Ultra Scan采用世界顶级薄膜应力测量系统，MOS(Multi-beam Optical Sensor)多光束技术荣获美国专利技术！同时KSA公司荣获2008 Innovation of the Year Awardee！主要用户：全球著名高等学府（如：Harvard University 2套，Stanford University，Johns Hopkins University，Brown University 2套，Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute，西安交通大学等）、中国计量科学研究院、中科院上海微系统所、中科院上海光机所、中科院半导体所、半导体制和微电子造商（如IBM.，Seagate Research Center,PhillipsSemiconductor,NEC，Nissan ARC,Nichia Glass Corporation）等所采用。

       应用户在薄膜应力mapping测试方面的特殊需求，kSA依赖其过硬的技术制造服务团，成功开发研制了具备超大面积mapping测试功能的kSA MOS Ultra-Scan, kSA MOS-US-1500，该设备曲率/应力mapping测试成像面积高达1.5mx1.5m，各项技术指标均优于标准配置的薄膜应力测试仪kSA MOS Ultra Scan。

       同时据了解，该设备于2014年7月3日成功通过了中科院设备主管单位的验收。